[공학,기술] 반도체공학 실험 - Metal Deposition / 실험 4 : Metal Deposition 1. 실험 목적 MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 ‘Dry etching을 실시한 후 Si기판 위에 금속을 증착시키는 공정인 ‘Metal deposition을 실시하여 기판의 면저항을 측정한다. 증착시키는 금속을 Ni로 증착 두께를 10nm, 20nm, 30nm로 변화를 주어 증착 두께를 조정함에 따라 제품의 면저항에 어떤 영…
[자연과학] 실험 - Vacuum deposition의 이해와 증착속도에 따른 압력 변화측정[예비] / 실험 - Vacuum deposition의 이해와 증착속도에 따른 압력 변화측정[예비] 1. 실험 목적 진공 상에서의 물질의 증착을 이해하고, 압력에 따라 변화하는 챔버 안의 증발 분자량을 계산한다. 2. 실험 과정 시료 및 장치 준비 과정(모든 세척과정에서는 반드시 일회용 비닐 장갑을 낀다.) 1) 기판 …
[영문자기소개서] 법률 법무 특허 960 / 1216room 729-24 Bongcheon-dong Gwanak-gu S.KOREA TEL : +82-2-835-4993 Christine LITIGATION 문서서식포탈비즈폼 Successfully conducted depositions and trials in a variety of media and commercial cases. Achieved favorable resolution of complex, difficult-to-win cases through meticulous work and deployment of group-su…
화학공학실험 - 진공 상에서의 물질의 증착 / 화학공학실험 - 진공 상에서의 물질의 증착 Ⅰ 실험목표 진공 상에서의 물질의 증착을 이해하고, 압력에 따라 변화하는 챔버 안의 증발 분자량을 계산한다. Ⅱ 실험 이론 ① 압력 단위 환산 1atm 〓 101325Pa 〓 1.01325bar 〓 760mmHg(torr) 〓 14.696 psi ② 증착속도(/s) deposition tickness monitor device 옹스트롬 [angstrom] …
‥ silicon nitride Nitride Deposition Contact holes S D G Contact Etch Ion Implantation resist ox D G Scanning ionbeam S Metal Deposition and Etch drain S D G M
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