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PVDF¸¦ ÀÌ¿ëÇÑ ¾ÐÀü ÇϺ£½ºÆà ¼ÒÀÚ / 1. PVDF 2. ¾ÐÀü ÇϺ£½ºÆà 3. ¿¡³ÊÁö ÇϺ£½ºÆà 4. °íÂû ¹× ¾ÐÀü ¼º´ÉÀ» ÁõÁø½ÃÅ°´Â ¹æ¹ý / 1. PVDF PVDF´Â Æú¸®ºñ´Ò¸®µ§ Ç÷ç¿À¶óÀ̵å(Polyvinylidene Fluoride)ÀÇ ¾àÀÚ·Î, ÈÇнÄÀº (C2H2FnÀ¸·Î ³ªÅ¸³¾ ¼ö ÀÖ´Â °íºÐÀÚ ¹°ÁúÀÌ´Ù. ÀÌ °íºÐÀڴ ƯÈ÷ Àü±âÀû, ±â°èÀû, ¿Àû Ư¼ºÀÌ ¶Ù¾î³ª ´Ù¾çÇÑ »ê¾÷ ºÐ¾ß¿¡¼ È°¿ëµÈ´Ù. PVDF´Â °í¿Â¿¡¼µµ ¾ÈÁ¤¡¦ |
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½ÇÇè ¿¹ºñ·¹Æ÷Æ®(western blot, nitrocellulose¿Í PVDF membrane ºñ±³) / 1. Western blotÀÇ ¿ø¸® 2. Nitrocellulose¿Í PVDF membraneÀÇ ºñ±³ 3. Âü°í¹®Çå / 1. Western blotÀÇ ¿ø¸® Western blotÀº ´Ü¹éÁúÀ» °ËÃâÇÏ°í ºÐ¼®ÇÏ´Â À¯¿ëÇÑ ½ÇÇè ±â¹ýÀÌ´Ù. ÀÌ ¹æ¹ýÀº ƯÁ¤ ´Ü¹éÁúÀÇ Á¸Àç¿Í ¾çÀ» È®ÀÎÇϱâ À§ÇØ Àü±â¿µµ¿°ú ¸é¿ªºÐ¼®ÀÇ ¿ø¸®¸¦ °áÇÕÇÏ¿© »ç¿ëÇÑ´Ù. ±âº»ÀûÀ¸·Î »ùÇà ³»ÀÇ ´Ü¡¦ |
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PVD ÁõÂø¹ý °á°ú º¸°í¼ [A£« ·¹Æ÷Æ®] / 1. Thermal evaporation ¿ø¸® 2. ½ÇÇè °úÁ¤(ÃÖ´ëÇÑ »ó¼¼È÷ ¼¼ú) 3. »ç¿ë µÈ ±âÆÇ Á¾·ù¿Í ¸¶½ºÅ© ¸ð¾ç(ÆÐÅÏ) 4. ÀúÇ× ÃøÁ¤ ¿ø¸®¿Í °á°ú 5. ±âÆÇÀÇ Á¾·ù¿¡ µû¶ó ÁõÂøÇÑ metalÀü±ØÀÇ ¿ëµµ ¹× ¾îÇø®ÄÉÀÌ¼Ç / 1. Thermal evaporation ¿ø¸® Thermal evaporationÀº ¹°ÁúÀ» Áø°ø »óÅ¿¡¼ °¡¿ÇÏ¿© ±âȽÃÅ°°í, ÀÌ·¯ÇÑ ±âü »óÅÂÀÇ ¹°ÁúÀÌ ±âÆÇ ¡¦ |
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PVD ÁõÂø ¿µ¹®º¸°í¼ (ÀüÀÚÀç·á ·¹Æ÷Æ®) / 1. Deposition process 2. Examples 3.Thin film deposition techniques 4. Comparison of PVD 5. expectation 6. Conclution 7. Reference / 1. Deposition process PVD, ¶Ç´Â ¹°¸®Àû Áõ±â ÁõÂø(Physical Vapor Deposition)Àº °íü ¹°ÁúÀ» °¡¿ÇÏ¿© ±× ¹°ÁúÀÇ ¿øÀÚ³ª ºÐÀÚ°¡ ±âü »óÅ·Πº¯È¯µÇ°í, ÀÌ¾î¼ ÀÌ ±âü°¡ ±âÆÇ À§¿¡ ÀÀÃàÇÏ¡¦ |
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PVD ÁõÂø¹ý ¿¹ºñ º¸°í¼ [A£« ·¹Æ÷Æ®] / 1. Rotary pump 2. Diffusion pump 3. ¿©·¯ PumpÀÇ ºñ±³ 4. PVD / 1. Rotary pump Rotary pump´Â Áø°øÀ» »ý¼ºÇÏ´Â µ¥ ³Î¸® »ç¿ëµÇ´Â Àåºñ·Î, ´Ù¾çÇÑ »ê¾÷°ú ¿¬±¸ ºÐ¾ß¿¡¼ ÇʼöÀûÀÎ ¿ªÇÒÀ» ÇÑ´Ù. ÀÌ·¯ÇÑ ÆßÇÁ´Â ÁÖ·Î µÎ °³ÀÇ È¸ÀüÇÏ´Â ·ÎÅ͸¦ ÀÌ¿ëÇÏ¿© °ø±â¸¦ Á¦°ÅÇÏ¿© Áø°ø »óŸ¦ ¸¸µé¾î³½´Ù. ±âº» ¿ø¸®´Â ȸÀü¿îµ¿À» ÅëÇØ °ø°£ ¶Ç´Â è¹ö¡¦ |
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±âŸ  | 
4p age   | 
3,000 ¿ø
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PVD ÃÖÁ¾ ¹ßÇ¥ / 1. Introduction 2. Resistive heating 3. Electron-bombardment heating 4. Application 5. Reference / 1. Introduction PVD(Physical Vapor Deposition)´Â ¹°ÁúÀÇ ÁõÂø ¹æ¹ý Áß Çϳª·Î, °íü ¹°ÁúÀ» ±âü »óÅ·Πº¯È¯ÇÑ ÈÄ À̸¦ ´Ù½Ã °íü ÇüÅ·Πº¯È¯ÇÏ¿© Ç¥¸é¿¡ ÀûÃþÇÏ´Â °úÁ¤À» ÀǹÌÇÑ´Ù. ÀÌ ±â¼úÀº ¹ÝµµÃ¼, ±Ý¼Ó, ¼¼¶ó¹Í µî ´Ù¾çÇÑ ºÐ¾ß¿¡¼ È°¿ëµÇ°í ÀÖÀ¸¡¦ |
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PVD¹æ¹ý(¿ Áõ¹ß¹ý, ÀüÀÚºö Áõ¹ß¹ý, ½ºÆÛÅ͸µ ¹ý) / 1. PVD 2. Thermal evaporator 3. E-beam evaporator 4. Sputtering / 1. PVD PVD´Â ¹°¸®Àû ÁõÂø(Physical Vapor Deposition)ÀÇ ¾à¾î·Î, ´Ù¾çÇÑ Àç·áÀÇ ¾ãÀº Çʸ§À» ±âÆÇ À§¿¡ ÁõÂøÇÏ´Â ±â¼úÀÌ´Ù. ÀÌ ¹æ¹ýÀº ±âü »óÅÂÀÇ Àç·á¸¦ È°¿ëÇÏ¿© ±âÆÇÀÇ Ç¥¸é¿¡ ¿øÇÏ´Â µÎ²²ÀÇ ¾ãÀº Çʸ§À» Çü¼ºÇÑ´Ù. PVD °úÁ¤Àº ´ë°³ Áø°ø »óÅ¿¡¼ ¼öÇࡦ |
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±Ý¼Ó°ú Ç¥¸é°øÇÐ - PVD¿¡ ´ëÇؼ / ¸ñ Â÷ 1. ¼·Ð 2. PVD¹ý 2.1 PVD ¶õ 2.1 PVD ¿ø¸® 2.3 PVD °³¿ä 2.4 PVD ¿µ»ó 2.5 PVD À塤´ÜÁ¡ 3. PVD Á¾·ù 3.1 PVD Á¾·ù 3.2 Áõ¹ß (¾ÆÅ©Áõ¹ß¹ý) 3.3 À̿µµ±Ý (ÀÌ¿ÂÁÖ¡¦ |
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Ç¥¸é°øÇÐ [PVD]¿¡ ´ëÇؼ / ¸ñ Â÷ 1. ¼·Ð 2. PVD¹ý 2.1 PVD ¶õ 2.1 PVD ¿ø¸® 2.3 PVD °³¿ä 2.4 PVD ¿µ»ó 2.5 PVD À塤´ÜÁ¡ 3. PVD Á¾·ù 3.1 PVD Á¾·ù 3.2 Áõ¹ß (¾ÆÅ©Áõ¹ß¹ý) 3.3 À̿µµ±Ý (ÀÌ¿ÂÁÖÀÔ¹ý) 3¡¦ |
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[°øÇÐ] [¼ÒÀç°øÁ¤½ÇÇè] ¹Ú¸·°øÇÐ - PVD ¿Í CVD¿¡ °üÇØ / ¼ÒÀç°øÁ¤½ÇÇè PVD ¿Í CVD PVD ¿Í CVD PVD ¿Í CVD Thin film Process and analysis Thin film Process and analysis Thin film Process and¡¦ |
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