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| Sputter Deposition에 대한 글입니다. sputter / 1.3. Interactions on the target surface 가속된 양이온이 고체표면에 충돌하면 중성원자 배출, 후방산란, X선 방출, 광자 발생, 이차 전자 방출, 그리고 target 표면에서 기체원자의 탈착 등이 발생하며, target에서는 비정질화, 이온침투, 화합물 형성, cascade 발생, 국부적 가열, 점결함이 생성된다. 플라즈마를 유지하는데 가장 중… |
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| [자연과학] 실험 - Vacuum deposition의 이해와 증착속도에 따른 압력 변화측정[예비] / 실험 - Vacuum deposition의 이해와 증착속도에 따른 압력 변화측정[예비] 1. 실험 목적 진공 상에서의 물질의 증착을 이해하고, 압력에 따라 변화하는 챔버 안의 증발 분자량을 계산한다. 2. 실험 과정 시료 및 장치 준비 과정(모든 세척과정에서는 반드시 일회용 비닐 장갑을 낀다.) 1) 기판 … |
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| [공학,기술] 반도체공학 실험 - Metal Deposition / 실험 4 : Metal Deposition 1. 실험 목적 MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 ‘Dry etching을 실시한 후 Si기판 위에 금속을 증착시키는 공정인 ‘Metal deposition을 실시하여 기판의 면저항을 측정한다. 증착시키는 금속을 Ni로 증착 두께를 10nm, 20nm, 30nm로 변화를 주어 증착 두께를 조정함에 따라 제품의 면저항에 어떤 영… |
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| 숭실대학교 신소재골학실험2 Deposition 공정 및 소자 제작 평가 결과보고서 / 1. 실험 제목 2. 실험 날짜 3. 실험 목적 4. 시약 및 기기 5. 실험 방법 6. 실험 결과 7. 결론 및 고찰 / 1. 실험 제목 Deposition 공정 및 소자 제작 평가 결과보고서”이다. 본 실험에서는 다양한 증착(Deposition) 공정을 통해 나노소재를 합성하고, 이들로 제작된 소자의 특성을 평가하기 위해… |
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| film deposition issue / 1. 공정 소개 2. 공정 이슈 / 1. 공정 소개 Film deposition, 즉 필름 증착은 다양한 산업 분야에서 널리 활용되는 공정으로, 주로 반도체 제조, 옵토일렉트로닉스, 코팅 기술 등에서 중요한 역할을 한다. 이 과정은 기판 위에 얇은 필름을 형성하는 것으로, 이러한 필름은 전기적, 광학적 또는 기계적 특성을 부여하는 데 기여한다. 필름 증착의 주요 목적… |
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| [반도체공정실험]Cleaning , Oxidation, Photolithography, Dry etching, Metal Deposition, Annealing(Silcidation) / 1. 실험 목적 2. 실험 방법 3. 실험 결과 4. 토의 사항 II.Photolithography / 1. 실험 목적 2. 실험 이론 및 원리 3. 실험 방법 4. 실험 결과 5. 토의 사항 III.Dry etching |
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| [반도체공정실험]Cleaning , Oxidation, Photolithography, Dry Etching, Metal Deposition / 1) 실험 목적 2) 실험 이론 및 원리 3) 실험 방법 4) 실험 결과 5) 토의 사항 2. Photolithography / |
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| 숭실대학교 신소재골학실험2 Deposition 공정 및 소자 제작 평가 결과보고서 / 1. 실험 제목 2. 실험 날짜 3. 실험 목적 4. 시약 및 기기 5. 실험 방법 6. 실험 결과 7. 결론 및 고찰 / 1. 실험 제목 숭실대학교 신소재골학실험2의 `Deposition 공정 및 소자 제작` 실험은 현대 전자소자의 제작 과정에서 필수적으로 수행되는 증착 기술의 이해와 응용을 목표로 한다. 이 실험… |
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| 세라믹 공학 실험 보고서 (Pulsed laser deposition of oxide thin films and their analysis) / 1. 분석자료 2. Report(수정본).docx / 1. 분석자료 Pulsed laser deposition (PLD)에서 산화물 박막의 분석자료는 다양한 물리적, 화학적 성질을 평가하는 데 중요한 역할을 한다. PLD는 금속 및 산화물 표면에 레이저 펄스를 이용해 플라즈마를 생성하고, 이 플라즈마에서 방출된 원… |
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| Laser Ablation of a Graphite Target in a N2 Atmosphere and Pulsed Laser Deposition 결과 / 1. 결과 (1) 첫 번째 금속 (2) 두 번째 금속 (3) 세 번째 금속 2. Discussion / 1. 결과 레이저 어블레이션을 통해 그래파이트 타겟에서 나이트로겐(N 분위기에서 발생한 결과는 여러 가지 흥미로운 특성과 현상을 드러낸다. 시편 분석 결과, 어블레이션된 그래파이트 타겟의 표면은… |
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![[자연과학] 실험 - Vacuum deposition의 이해와 증착속도에 따른 압력 변화측정[예비]](/View/[자연과학] 실험 - Vacuum deposition의 이해와 증착속도에 따른 압력 변화측정[예비]_hwp_01_.gif)
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