|
ITOscribingcleaning A£« ·¹Æ÷Æ® °Ç±¹´ëÇб³ °íºÐÀÚÀç·á°úÇÐ / 1.½ÇÇèÁ¦¸ñ 2.½ÇÇèÁ¶&½ÇÇèÀÚ 3.½ÇÇè¸ñÀû 4.½ÇÇèÀÌ·Ð 5.ÀåÄ¡ ¹× ½Ã¾à 6.½ÇÇè¹æ¹ý 7.Âü°í¹®Çå / 1.½ÇÇèÁ¦¸ñ ½ÇÇè Á¦¸ñÀº `ITOscribingcleaning A+ ·¹Æ÷Æ®`ÀÌ´Ù. º» ¿¬±¸¿¡¼´Â ITO(Indium Tin Oxide) ÄÚÆà ǥ¸éÀÇ Ã»°áµµ¸¦ Çâ»ó½ÃÅ°±â À§ÇÑ ¿©·¯ °¡Áö ¼¼Ã´ ¹æ¹ý ¹× ±× È¿°ú¸¦ Æò°¡ÇÑ´Ù. ITO´Â Àüµµ¼ºÀÌ ¶Ù¾î³ª°í Åõ¸í¡¦ |
|
|
|
|
|
ITOscribingcleaning A£« ·¹Æ÷Æ® °Ç±¹´ëÇб³ °íºÐÀÚÀç·á°úÇÐ / 1.½ÇÇèÁ¦¸ñ 2.½ÇÇèÁ¶&½ÇÇèÀÚ 3.½ÇÇè¸ñÀû 4.½ÇÇèÀÌ·Ð 5.ÀåÄ¡ ¹× ½Ã¾à 6.½ÇÇè¹æ¹ý 7.Âü°í¹®Çå / 1.½ÇÇèÁ¦¸ñ ½ÇÇèÁ¦¸ñÀº `ITO ½ºÅ©¸®ºù ¹× û¼Ò °úÁ¤¿¡ µû¸¥ ÀüÀÚ ¹°ÁúÀÇ Æ¯¼º º¯È`·Î ¼³Á¤ÇÏ¿´´Ù. ÀÌ ½ÇÇè¿¡¼´Â Àεã ÁÖ¼® »êȹ°(ITO) ±âÆÇÀÇ ½ºÅ©¸®ºù°ú û¼Ò°¡ ÀüÀÚ ¼ÒÀÚÀÇ ¼º´É¿¡ ¹ÌÄ¡´Â ¿µÇâÀ» ¿¬±¸ÇÏ°íÀÚ ÇÏ¿´´Ù¡¦ |
|
|
|
|
|
ITOscribingcleaning A+ ·¹Æ÷Æ® °Ç±¹´ëÇб³ °íºÐÀÚÀç·á°úÇп¡ ´ëÇÑ ³»¿ëÀÔ´Ï´Ù. / 1.½ÇÇèÁ¦¸ñ 2.½ÇÇèÁ¶&½ÇÇèÀÚ 3.½ÇÇè¸ñÀû 4.½ÇÇèÀÌ·Ð 5.ÀåÄ¡ ¹× ½Ã¾à 6.½ÇÇè¹æ¹ý 7.Âü°í¹®Çå / 1. ½ÇÇèÁ¦¸ñ : ITO Scribing & Cleaning 2. ½ÇÇèÁ¶ & ½ÇÇèÀÚ : 3. ½ÇÇè¸ñÀû ◦OLED/PLED/OPV deviceÀÇ Åõ¸íÀü±ØÀ¸·Î »ç¿ëµÇ´Â ITO glass¸¦ ¿øÇÏ´Â Å©±â·Î ÀÚ¸£´Â ¹æ¹ýÀ» ½ÀµæÇÑ´Ù. ◦¿øÇÏ´Â ¸ð¾ç¡¦ |
|
|
|
|
|
1. ITO ¼³¸³ÃßÁø ¹è°æ ±¹Á¦¹«¿ª±â±¸(ITO) ¼³¸³ÃßÁøÀº 1940³â´ë Áß¹Ý ¼¼°è °æÁ¦ÀÇ º¹±¸¿Í ¾ÈÁ¤È¸¦ ¸ñÇ¥·Î ÇÏ¿© ³ªÅ¸³ ÁÖ¿äÇÑ ±¹Á¦ Çù·Â.. / 1. ITO ¼³¸³ÃßÁø ¹è°æ 2. ITO¼³¸³ ½ÇÆÐ 3. GATTüÁ¦ Ãâ¹ü 4. Âü°í¹®Çå / 1. ITO ¼³¸³ÃßÁø ¹è°æ ±¹Á¦¹«¿ª±â±¸(ITO) ¼³¸³ÃßÁøÀº 1940³â´ë Áß¹Ý ¼¼°è °æÁ¦ÀÇ º¹±¸¿Í ¾ÈÁ¤È¸¦ ¸ñÇ¥·Î ÇÏ¿© ³ªÅ¸³ ÁÖ¿äÇÑ ±¹Á¦ Çù·ÂÀÇ ÀÏȯÀÌ´Ù. Á¦2Â÷ ¼¼°è´ë¡¦ |
|
|
|
|
|
[°íºÐÀÚ ÈÇÐ] AFMÀ» ÀÌ¿ëÇÑ ITO glass ºÐ¼® / ¥°. Abstract ¥±. Introduction 1. ITO(Indium-Tin Oxide) 2. ¿øÀÚ°£·Â Çö¹Ì°æ(Atomic Force Microscope) ¥². Experiment 1. »ùÇà Á¦ÀÛ ¹æ¹ý 2. ITO glass¸¦ ÀÌ¿ëÇÑ AFM ½ÇÇè°úÁ¤ ¥³. Result ¥´. Conclusion ¥µ. Reference / ¥°. Abstract AFM(¿øÀÚ·Â Çö¹Ì°æ)Àº ³ª³ë¹ÌÅÍ ¼öÁØÀÇ Ç¥¸é ±¸Á¶¸¦ ºÐ¼®ÇÏ´Â µ¥ À¯¿ëÇÑ µµ±¸·Î,¡¦ |
|
|
|
|
|
[°íºÐÀÚÀç·á]ITO scribing , cleaning-¿¹ºñ·¹Æ÷Æ®(¸¸Á¡) / 1. ½ÇÇè¸ñÇ¥ 2. ¿ø¸® 3. ±â±¸ ¹× ½Ã¾à 4. ½ÇÇè ¹æ¹ý 5. Âü°í¹®Çå / 1. ½ÇÇè¸ñÇ¥ º» ½ÇÇèÀÇ ¸ñÇ¥´Â ITO(Indium Tin Oxide) ¹Ú¸·ÀÇ ½ºÅ©¶óÀ̺ù ¹× ¼¼Ã´ °úÁ¤À» ÅëÇØ ITOÀÇ Àü±âÀû Ư¼º°ú ±¤ÇÐÀû Ư¼ºÀ» ÃÖÀûÈÇÏ´Â µ¥ ÀÖ´Ù. ITO´Â Åõ¸í Àü±ØÀ¸·Î ³Î¸® »ç¿ëµÇ¸ç, ƯÈ÷ µð½ºÇ÷¹ÀÌ ¹× žçÀüÁö¿Í °°Àº ´Ù¾çÇÑ ÀüÀÚ ±â±â¿¡ ÇÊ¡¦ |
|
|
|
|
|
[°íºÐÀÚÀç·á½ÇÇè] ITO scribing , cleaning °á°ú·¹Æ÷Æ® (¸¸Á¡) / 1. ½ÇÇè¸ñÀû 2. ½ÇÇè¹è°æ 3. ½ÇÇè³»¿ë 1) ITO ±âÆÇÀÇ Scribing 2) ITO ±âÆÇÀÇ Àüó¸® 4. ½ÇÇè °á°ú ¹× °íÂû 5. ÅäÀÇ »çÇ× 1) RF Plasma¿Í UVO CleanerÀÇ ±âÆÇ ¼¼Á¤ ¿ø¸®¿¡ ´ëÇؼ ÅäÀÇÇغ¸ÀÚ. 2) ITO glass¿¡ ¹¯¾îÀÖ´Â particle, À¯±â¹°, ¹«±â¹° µîÀº ¾î¶°ÇÑ ¿ø¸®¿¡ ÀÇÇؼ ¼¼Á¤ µÇ´ÂÁö ÅäÀÇÇغ¸ÀÚ. 6. Âü°í¹®Ç塦 |
|
|
|
|
|
[°íºÐÀÚÀç·á½ÇÇè]ITO patterning °á°ú·¹Æ÷Æ® / 1. ½ÇÇè¸ñÇ¥ 2. ½ÇÇè ¹è°æ 3. ½ÇÇè³»¿ë 4. ½ÇÇè °á°ú ¹× °íÂû 5. ÅäÀÇ»çÇ× 1) PRÀÇ Á¾·ù(positive or negative)¿¡ µû¶ó patternÀÌ Çü¼ºµÇ´Â ¸ð¾çÀ» »ý°¢ÇØ º¸ÀÚ. 2) Baking Á¶°Ç, ³ë±¤ ½Ã°£, etching time µî ÃÖÀûÀÇ Á¶°ÇÀ» ã¾Æº»´Ù. 3) °¢ °øÁ¤ ½Ã ÁÖ¿äÇÑ ¿ø¸® ¹× ¹ÝÀÀÀ» ÀÌÇØÇÑ´Ù. 6. Âü°í¹®Çå / 1. ½ÇÇè¸ñÇ¥ °íºÐÀÚÀç·á½Ç¡¦ |
|
|
|
|
|
1. ITO ¼³¸³ÃßÁø ¹è°æ ±¹Á¦¹«¿ª±â±¸(ITO) ¼³¸³ÃßÁøÀÇ ¹è°æÀº 2Â÷ ¼¼°è´ëÀü ÀÌÈÄ ±¹Á¦ °æÁ¦ Áú¼¸¦ ÀçÆíÇÏ·Á´Â Àü¼¼°èÀûÀÎ ³ë·ÂÀÇ ÀÏȯÀ¸·Î .. / 1. ITO ¼³¸³ÃßÁø ¹è°æ 2. ITO¼³¸³ ½ÇÆÐ 3. GATTüÁ¦ Ãâ¹ü 4. Âü°í¹®Çå / 1. ITO ¼³¸³ÃßÁø ¹è°æ ±¹Á¦¹«¿ª±â±¸(ITO) ¼³¸³ÃßÁøÀÇ ¹è°æÀº 2Â÷ ¼¼°è´ëÀü ÀÌÈÄ ±¹Á¦ °æÁ¦ Áú¼¸¦ ÀçÆíÇÏ·Á´Â Àü¼¼°èÀûÀÎ ³ë·ÂÀÇ ÀÏȯÀ¸·Î ÀÌÇØÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù. ÀüÀ |
|
|
|
|
|
1. Åõ¸íÀü±Ø Åõ¸íÀü±ØÀº Àü±â Àüµµ¼ºÀ» °¡Áö¸é¼µµ ºûÀ» Åë°ú½Ãų ¼ö Àִ Ư¼ºÀ» °¡Áø Àç·á·Î¼, ÁÖ·Î Àεã ÁÖ¼® »êȹ°(ITO)À» »ç¿ëÇÑ´Ù. .. / 1. Åõ¸íÀü±Ø 1) Åõ¸íÀü±ØÀÇ Á¤ÀÇ ¹× Á¶°Ç 2) Åõ¸íÀü±ØÀÇ Á¾·ù 3) Åõ¸íÀü±ØÀÇ ¿ø¸® 2. Áø°øÆßÇÁ 1) Áø°øÆßÇÁÀÇ Á¤ÀÇ 2) Áø°øÆßÇÁÀÇ Á¾·ù 3) Áø°øÆßÇÁÀÇ ¿ø¸® 3. Áø°ø °ÔÀÌÁö 1) Áø°ø °ÔÀÌÁöÀÇ Á¤ÀÇ 2) Áø°ø °ÔÀÌÁöÀÇ Á¾·ù ¹× ¿ø¸® 4. ¡¦ |
|
|
|
|