ITOscribingcleaning A＋ 레포트 건국대학교 고분자재료과학

1.실험제목

실험제목은 `ITO 스크리빙 및 청소 과정에 따른 전자 물질의 특성 변화`로 설정하였다. 이 실험에서는 인듐 주석 산화물(ITO) 기판의 스크리빙과 청소가 전자 소자의 성능에 미치는 영향을 연구하고자 하였다. ITO는 높은 전도성과 우수한 투과율을 가진 투명 전극 재료로, 터치스크린, OLED 및 태양광 패널 등 다양한 전자 소자에 널리 사용된다. 그러나 ITO 기판의 표면 처리는 소자의 최종 성능에 결정적인 역할을 하기 때문에, 스크리빙과 청소 과정이 중요한 연구 요소로 부각되고 있다. 스크리빙은 ITO 기판의 표면에 미세 패턴을 형성하여 전극의 전기적 특성을 조절하고, 청소 과정은 오염물질을 제거하여 전극의 전도성을 최적화하는데 필수적이다. 따라서 이 실험에서는 다양한 스크리빙 조건과 청소 방법을 적용하여 ITO 기판의 전도도, 표면 거칠기 및 광학적 특성을 분석하였다. 실험 후, 이를 통해 전자 소자의 최적화를 위한 기초 자료를 제공하고, 향후 ITO 기반 소자의 성능 개선을 위한 방향성을 제시하고자 하였다. ITO 스크리빙 및 청소 과정은 단순히 기판의 물리적 상태를 변화시키는 것을 넘어, 최종 소자의 전기적, 광학적 성능에 중대…(생략)