[고분자재료]ITO scribing , cleaning-예비레포트(만점)

1. 실험목표

본 실험의 목표는 ITO(Indium Tin Oxide) 박막의 스크라이빙 및 세척 과정을 통해 ITO의 전기적 특성과 광학적 특성을 최적화하는 데 있다. ITO는 투명 전극으로 널리 사용되며, 특히 디스플레이 및 태양전지와 같은 다양한 전자 기기에 필수적인 재료로 자리 잡고 있다. 따라서 ITO의 제작 및 처리 과정에서의 정밀성이 전기적 성능과 내구성에 크게 영향을 미친다. 본 실험에서는 ITO의 스크라이빙 공정을 통해 원하는 패턴을 형성하고, 이후 세척 과정을 통해 불순물이나 이물질을 제거함으로써 전극의 전도성과 투명도를 높이는 것을 목표로 한다. 스크라이빙 과정에서는 레이저를 이용하여 ITO 표면에 정밀하게 나눔선을 생성하게 된다. 이 과정에서 주의해야 할 점은 스크라이빙 깊이와 패턴의 정밀도이며, 이는 이후의 전기적 측정 결과에 큰 영향을 미칠 수 있다. 또한, 스크라이빙 후에는 ITO의 전기적 특성이 변화할 수 있으며, 이를 정확히 평가하기 위해서는 세척 과정이 필수적이다. 세척 과정에서는 화학 용제를 사용하여 표면의 잔여물 및 불순물을 제거하며, 이로 인해 ITO 전극의 재료적 특성이 극대화된다. 본 실험의 최종 목표는 ITO의 스크…(생략)