숭실대학교 신소재공학실험2 Oxidation 공정 결과보고서

1. 실험 제목

Oxidation 공정`이다. 이 실험은 신소재 공학의 중요한 공정 중 하나인 산화 과정을 다루고 있으며, 소재의 특성 변화와 산화막 형성에 대해 깊이 있는 이해를 목적으로 한다. 산화는 금속 또는 반도체 물질이 산소와 반응하여 산화물을 형성하는 과정으로, 주로 고온에서 진행된다. 이 과정은 많은 산업 분야, 특히 전자 및 반도체 산업에서 중요한 역할을 한다. 산화막은 소재의 표면에 존재하는 보호층으로, 이 층은 산화 및 부식을 방지하는 기능을 수행하며, 전기적 특성을 조절하는 데에도 기여한다. 이번 실험에서는 주로 실리콘 웨이퍼를 사용하여 산화 공정을 수행하고, 다양한 조건에서의 산화막 두께 변화 및 특성을 분석한다. 산화 속도는 온도, 산소 농도, 공정 시간 등 여러 요인에 의해 영향을 받으며, 이러한 변수들을 조절하면서 산화막 형성을 최적화하는 방법을 학습하는 것이 중요하다. 실험이 진행되는 동안, 산화 과정을 통해 형성된 산화막의 두께는 다양한 측정 기법을 통해 확인하며, 각 조건에서의 산화 특성을 비교하여 분석할 것이다. 또한, 산화막의 물리적/화학적 특성을 평가하기 위해 SEM(주사 전자 현미경)이나 XRD(염색 분…(생략)