(특집) 포토공정 심화 정리9편. Stepper의 설비구조

1. Light Source

포토공정에서 스테퍼의 핵심 요소 중 하나는 광원이다. 광원은 칩 제작에 필요한 패턴을 포토레지스트에 전사하는 과정에서 필수적인 역할을 수행한다. 스테퍼의 광원은 일반적으로 반도체 제조 공정에서 널리 사용되는 자외선(UV) 광원을 기반으로 하며, 최근에는 극자외선(EUV) 광원의 사용도 증가하고 있다. 스테퍼의 광원은 패턴 전사 과정에서 중요한 요소로 작용한다. 이는 높은 정확도로 패턴을 전사해야 하므로 광원의 파장, 강도, 안정성 등이 크게 영향을 미친다. 광원의 파장은 포토레지스트의 감도와 밀접한 관계가 있으며, 일반적으로 사용되는 UV 광원은 대개 365nm, 248nm, 193nm와 같은 파장을 가진다. 한편, EUV 광원은 1 5nm의 짧은 파장을 제공하여 더욱 미세한 패턴 전사가 가능하다. 광원의 결속력은 그 또한 중요한 요소로, 주로 램프나 레이저와 같은 구조로 이루어지며, 램프의 경우 아르곤 플라즈마나 수은 램프가 사용된다. 이들의 작동은 고온에서 이루어지며, 따라서 극히 안정적인 환경이 요구된다. 레이저 광원은 특히 높은 발전량과 정밀도를 제공하므로, 현대 포토리소그래피에서 많이 채택되고 있다. 광원 고정 시스템 또…(생략)