마이크로 렌즈 어레이 패브리케이션 (Microlens Array Fabrication) 보고서

1. Photolithography & Reflow process를 이용한 Microlens array 제작

Photolithography와 Reflow process를 이용한 Microlens array 제작 과정은 효과적이고 정밀한 마이크로 렌즈 배열을 형성하는 데 필수적이다. 이 방법은 주로 반도체 제조 공정에서 채택되는 기술이며, 고해상도 렌즈 배열을 제작하는 데 적합하다. Photolithography 공정을 통해 원하는 형태와 크기의 패턴을 기판 위에 생성한 후, Reflow process를 통해 이 패턴을 변형하여 렌즈의 곡면 형태를 만들어낸다. 먼저, 기판 준비가 필요하다. 일반적으로 실리콘 웨이퍼, 유리 또는 플라스틱 기판이 사용되며, 기판은 깨끗하게 세척하여 먼지나 불순물이 없도록 한다. 세척 후, 포토레지스트를 균일하게 도포한다. 포토레지스트는 빛에 반응하여 화학적 성질이 변화하는 물질로, 이 단계에서 도포 방법에 따라 두께와 균일성이 결정된다. 주로 스핀 코팅 방식이 사용되며, 이를 통해 일정한 두께로 포토레지스트를 도포할 수 있다. 도포가 완료되면, 기판을 UV 광원 아래에 두어 광노출 과정을 수행한다. 노출 과정에서 포토레지스트는 패턴을 요구하는 마스크를 통해 빛에 노출된다. 그 후, 현상 과정을…(생략)