Photoresist processing

1. 실험제목

Photoresist processing은 반도체 및 나노기술 분야에서 중요한 공정 중 하나로, 원하는 패턴을 전사하는 과정이다. 이 과정은 반도체 칩 제조의 핵심 요소로, 나노미터 수준의 미세 패턴을 형성하는 데 필수적이다. 일반적으로 photolithography라는 기술을 통해 이루어지며, 이 과정은 먼저 기판 위에 photoresist라는 감광성 물질을 도포한 후, 특정 파장의 빛을 사용하여 이 photoresist에 패턴을 형성하는 것이다. 이후, 이 패턴을 기반으로 다양한 후속 공정을 통해 회로를 형성하고, 결국 완성된 반도체 소자가 탄생하게 된다. Photoresist는 다양한 종류가 있으며, 주로 양성(positive)과 음성(negative) photoresist로 나뉘어진다. 양성 photoresist는 빛에 노출된 부분이 용해되어 제거되는 반면, 음성 photoresist는 빛에 노출된 부분이 경화되어 남게 된다. 이러한 특성이 각기 다른 패턴 형성에서 어떻게 활용될 수 있는지를 이해하는 것이 중요하다. 공정에서 사용하는 광원의 종류나 파장에 따라서도 다양한 photoresist가 요구되며, 이는 최종적인 패턴의 해상도와 특성에 직접적인 영향을 미친다. 실험 전 이러한 기본 원리를 이해하는 것이 …(생략)