나노화학실험 CVD 예비보고서

1. 실험제목

CVD, 즉 화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition)은 나노화학 실험에서 중요한 역할을 하는 소재 합성 방법이다. 이 과정은 기체 상태의 전구체가 고체 또는 액체 표면에 의해 응축되어 얇은 막이나 나노 구조물을 형성하는 원리에 기반한다. CVD는 고순도 및 균일한 박막을 형성할 수 있는 능력 덕분에 반도체, 금속, 산화물, 그리고 다양한 나노 및 마이크로 구조물 제작에 광범위하게 사용된다. CVD 공정은 다양한 모드로 진행될 수 있으며, 그 중에서도 열분해 CVD(thermal CVD), 참조기체 CVD(precursor gas CVD), 플라스마 보조 CVD(plasma-enhanced CVD) 등이 있다. 각각의 방식은 전구체로 사용하는 화합물의 특성, 공정 온도 및 압력, 그리고 반응 조건에 따라 다르게 선택된다. CVD 공정의 장점 중 하나는 대면적의 고품질 박막을 균일하게 증착할 수 있다는 점으로, 이는 전자기기, 광학 소자, 촉매 등 다양한 분야에서 필수적인 기술이다. 또한, CVD는 자율적으로 공정을 제어할 수 있어, 소재의 물리적 및 화학적 특성을 정밀하게 조절할 수 있다. 이 실험은 다양한 전구체와 절차를 통해 나노 구조물을 합성하고, 그 결과를 관찰하여 CVD의 메…(생략)