1. Thermal Oxidation
Thermal oxidationÀº ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤¿¡¼ °í¼øµµÀÇ »êȽǸ®ÄÜ(SiO ¹Ú¸·À» Çü¼ºÇÏ´Â Áß¿äÇÑ ´Ü°èÀÌ´Ù. ÀÌ °øÁ¤Àº ½Ç¸®ÄÜ ¿þÀÌÆÛÀÇ Ç¥¸é¿¡ »ê¼Ò³ª ¼öÁõ±â¸¦ ÁÖÀÔÇÏ¿© ÀÏÁ¤ÇÑ ¿Âµµ¿¡¼ ½Ç¸®ÄÜ°ú ¹ÝÀÀ½ÃÄÑ »êȸ·À» ¸¸µå´Â °úÁ¤ÀÌ´Ù. ÀϹÝÀûÀ¸·Î »ç¿ëµÇ´Â ¿Âµµ´Â 800µµ¿¡¼ 1200µµ »çÀÌÀ̸ç, ÀÌ ¿Âµµ ¹üÀ§¿¡¼ ½Ç¸®ÄÜ ±âÆÇÀº »ê¼Ò¿Í ¹ÝÀÀÇÏ¿© ¾ãÀº »êȸ·À» »ý¼ºÇÑ´Ù. ÀÌ °úÁ¤Àº µÎ °¡Áö ¹æ¹ýÀ¸·Î ¼öÇàµÉ ¼ö ÀÖ´Ù. ù ¹ø°´Â °Ç½Ä »êÈ(dry oxidation) ¹æ½ÄÀ¸·Î, °í¼øµµ »ê¼Ò(O °¡½º¸¦ »ç¿ëÇÏ¿© »êȸ¦ ÁøÇàÇÑ´Ù. µÎ ¹ø°´Â ½À½Ä »êÈ(wet oxidation) ¹æ½ÄÀ¸·Î, ¼öÁõ±â(H2O)¸¦ »ç¿ëÇÏ¿© »ê¼Ò °ø±ÞÀ» µ½´Â´Ù. °Ç½Ä »êÈ´Â »ý¼ºµÇ´Â SiO2ÀÇ µÎ²²°¡ ´À¸®°Ô Áõ°¡Çϴ Ư¡ÀÌ ÀÖÀ¸¸ç, ´ë°³ Àú¿Â¿¡¼ ³ôÀº Ç°ÁúÀÇ »êȸ·À» Çü¼ºÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù. ÀÌ·¯ÇÑ ¹æ¹ýÀº ÀüÀÚ¼ÒÀÚÀÇ Àý¿¬Ãþ°ú °°Àº °íÇ°ÁúÀÇ ¾ãÀº »êȸ·À» ¿ä±¸ÇÒ ¶§ ÁÖ·Î »ç¿ëµÈ´Ù. ¹Ý¸é, ½À½Ä »êÈ´Â »ó´ëÀûÀ¸·Î ºü¸¥ »êÈ ¼Óµµ¸¦ Á¦°øÇÑ´Ù. ½À½Ä Á¶°Ç ÇÏ¿¡¼ SiO2ÀÇ µÎ²²°¡ ´õ »¡¸® Áõ°¡Çϸç, ÀÌ·Î ÀÎÇØ µÎ²¨¿î »êȸ·ÀÌ ÇÊ¿äÇÑ °æ¿ì À¯¸®ÇÑ ¼±ÅÃÀÌ µÈ´Ù. ƯÈ÷, ½À½Ä »êÈ´Â ´õ Å« µÎ²²ÀÇ »êȸ·ÀÌ ÇÊ¿äÇÑ ºÒ¼ø¡¦(»ý·«)
|