ppt_¹ÝµµÃ¼, Dry Etching
¸ñÂ÷
• ±ØÀú¿Â etching Cryogenic etch
• Pulsed plasma
• ALE Atomic Layer Etching
• Etching µ¿Çâ
• ±ØÀú¿Â etching Cryogenic etch
±ØÀú¿Â etching, Áï Cryogenic etch´Â ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶ °øÁ¤¿¡¼ Áß¿äÇÑ ±â¼ú Áß Çϳª·Î, Àú¿Â Á¶°Ç¿¡¼ ¹°ÁúÀ» Á¦°ÅÇϱâ À§ÇØ »ç¿ëµÈ´Ù. ÀÌ °úÁ¤Àº ÀϹÝÀûÀÎ ¿¡Äª °øÁ¤°ú ´Ù¸£°Ô ³·Àº ¿Âµµ, ÀϹÝÀûÀ¸·Î -100µµ ÀÌÇÏ¿¡¼ ÁøÇàµÈ´Ù. ±ØÀú¿Â etchingÀÇ ÁÖ¿ä ÀåÁ¡Àº ³ôÀº ¼±Åüº°ú Á¤¹Ðµµ¸¦ Á¦°øÇÑ´Ù´Â Á¡ÀÌ´Ù. ÀÌ·¯ÇÑ ¼Ó¼º ´öºÐ¿¡ Æ®·£Áö½ºÅÍ, ¸Þ¸ð¸® ¼ÒÀÚ, ±¤ÇÐ Àåºñ µî ´Ù¾çÇÑ ¹Ì¼¼ ±¸Á¶¸¦ Á¶ÀÛÇÏ´Â µ¥ À¯¿ëÇÏ´Ù. ±ØÀú¿Â etchingÀº ÁÖ·Î °¡½º»ó ÈÇÐ ¹ÝÀÀÀ» ÅëÇØ ¼öÇàµÈ´Ù. À̶§ »ç¿ëÇÏ´Â °¡½º´Â ´Ù¾çÇÑ Á¾·ù°¡ ÀÖÀ¸¸ç, ´ëÇ¥ÀûÀ¸·Î ÇÁÇ÷ç¿À¸£È¹°(PF©ý), ºÒȼö¼Ò(HF), ±×¸®°í ±âŸ ÇöóÁ Àü±¸Ã¼°¡ ÀÖ´Ù. ÀÌ·¯ÇÑ °¡½ºµéÀÌ ±ØÀú¿ÂÀÇ È¯°æ¿¡¼ ¹ÝÀÀÇÏ°Ô µÇ¸é, Ç¥¸é¿¡ ÀÖ´Â ¿øÀÚ ¶Ç´Â ºÐÀÚ¿¡¼ ¿¡³ÊÁö¸¦ Àü´ÞÇÏ¿© ¿øÇÏ´Â ÆÐÅÏÀ» Á¦°ÅÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù. ¶ÇÇÑ Àú¿Â »óÅ¿¡¼ »çÀÌŬÀÌ ´À·ÁÁö±â ¶§¹®¿¡ ¿¡Äª °úÁ¤¿¡¼ ¹ß»ýÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ÀÜ¿©¹°ÀÌ¡¦(»ý·«)
|