Microscale Patterning with Photolithography and Etching Processes 예비레포트

1. 제목

Microscale 패터닝 기술은 현대 반도체 산업과 나노기술에서 중요한 역할을 한다. 이 과정은 높은 정밀도와 해상도로 물질의 미세한 구조를 형성하는 것을 가능하게 하며, 이는 다양한 전자기기와 센서의 성능 향상에 기여한다. 이 기술의 핵심적인 두 가지 과정인 포토리소그래피와 에칭은 서로 밀접하게 연결되어 있으며, 각각의 단계가 전체적인 패터닝 결과에 중요한 영향을 미친다. 포토리소그래피는 빛을 이용하여 감광성 재료에 패턴을 형성하는 과정이다. 이 과정에서는 일반적으로 포토레지스트라 불리는 감광성 물질이 기판에 코팅된 후, 특정 파장의 빛에 노출된다. 노출된 부분은 화학적으로 변화하여 후속 공정에서 선택적으로 제거할 수 있게 된다. 이 단계에서 광원과 마스크의 특성, 그리고 포토레지스트의 성질이 최종 패턴의 정확도와 해상도에 큰 영향을 미친다. 이러한 포토리소그래피 기술은 특히 반도체 제조에서 회로 패턴을 생성하는 데 필수적이다. 이후의 에칭 과정은 포토리소그래피로 형성된 패턴을 실제 물질에 전이시키는 역할을 한다. 에칭에는 두 가지 주요 방법이 있으며, 화학적 에칭과 물리적 에칭이 있다. 화학적 에칭은 에칭…(생략)