1.»ï¼ºÀüÀÚ¸¦ Áö¿øÇÑ ÀÌÀ¯¿Í ÀÔ»ç ÈÄ È¸»ç¿¡¼ ÀÌ·ç°í ½ÍÀº ²ÞÀ» ±â¼úÇϽʽÿÀ.
Àú´Â Deposition °øÁ¤ ±â¼ú°ú ¼ÒÀç ±â¼úÀÇ °³¹ßÀ» À§ÇØ »ï¼ºÀüÀÚ DS ºÎ¹® »ý»ê ±â¼ú ¿¬±¸¼Ò¿¡ Áö¿øÇÏ¿´½À´Ï´Ù. ÇöÀç ¹ÝµµÃ¼ ½ÃÀåÀº Ãʹ̼¼ °øÁ¤À» ÅëÇÑ °æÀï»ç ´ëºñ Â÷º°¼º ÀÖ´Â Á¦Ç°ÀÇ »ý»ê°ú ¿ø°¡ °æÀï·ÂÀÇ Áö¼ÓÀû È®º¸°¡ ÇʼöÀûÀÔ´Ï´Ù. `´õ ÀÛ°Ô`, `´õ ¹Ì¼¼ÇÏ°Ô` ¹ÝµµÃ¼¸¦ ±¸ÇöÇÏ´Â °ÍÀÌ ¹ÝµµÃ¼ ½ÃÀåÀÇ °æÀï·ÂÀÌ µÈ Áö±Ý, ±× Á߽ɿ¡´Â ÁõÂø±â¼úÀÌ ÀÖ½À´Ï´Ù. ±âÁ¸ÀÇ PVD ÁõÂø ¹æ½ÄÀº Step coverageÀÇ Á߿伺°ú ÇÔ²² CVD¿¡°Ô ÀÚ¸®¸¦ ³»¾î ÁÖ¾ú½À´Ï´Ù. ¶ÇÇÑ, ³·Àº Throughput¿¡µµ, ´õ ¾çÁúÀÇ ¸·À» ÁõÂøÇϱâ À§ÇØ ALD°øÁ¤ÀÌ °³¹ßµÇ¾ú°í ±âÁ¸ CVD °øÁ¤À» ´ëüÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù. ÀÌ·¯ÇÑ °øÁ¤±â¼úÀÇ ¹ßÀüÀº ¹Ì¼¼ ÆÐÅÏÀÇ ±¸ÇöÀ» À̲ø °ÍÀÔ´Ï´Ù.
»ï¼ºÀüÀÚ´Â ¿ÃÇØ ¹ÝµµÃ¼ ½ÃÀåÁ¡À¯À² ¼¼°è 1À§¸¦ ´Þ¼ºÇß½À´Ï´Ù. ÀÎÀç¿Í ±â¼úÀÇ Á¶È¸¦ ÅëÇÏ¿© ²÷ÀÓ¾øÀÌ µµÀüÇÑ °á°úÀÌ¸ç »õ·Î¿î °øÁ¤À» °³¹ßÇÏ°í ¼±µµÇس½ °á°ú¶ó°í »ý°¢ÇÕ´Ï´Ù. Àú´Â »ï¼ºÀÌ ÇÊ¿ä·Î ÇÏ´Â ÀÎÀç°¡ µÇ°Ú½À´Ï´Ù. »ï¼ºÀÇ ¼º°ø DNAÀÎ ÃÖ°í¸¦ ÁöÇâÇÏ´Â Á¤½ÅÀ¸·Î »õ·Î¿î Dep ±â¼úÀ» °³¹ßÇÏ¿© EUV¸¦ ³Ñ¾î¼´Â ¹Ì¼¼ ÆÐÅÏÀ» ±¸ÇöÇØ ³»°í ¡¦(»ý·«)
2.º»ÀÎÀÇ ¼ºÀå°úÁ¤À» °£·«È÷ ±â¼úÇ쵂 ÇöÀçÀÇ Àڽſ¡°Ô °¡Àå Å« ¿µÇâÀ» ³¢Ä£ »ç°Ç, Àι° µîÀ» Æ÷ÇÔÇÏ¿© ±â¼úÇϽñ⠹ٶø´Ï´Ù. (¡ØÀÛÇ°¼Ó °¡»óÀι°µµ °¡´É)
|