포토리소[photolithography] - 가공방법 및 적용분야에 대해서

VL SYmposium j. Yeo(2009)
8page FIg.5 Hankook Industry CO., LTD
10page Fig.6 Harry J. Levinson, Principles of Lithography, 2nd ed. (2004)
11page Fig.7 EUV Symposium, Rand de Leeuw (2xxx).
12page 자료: KSIA, 키움증권 리서치센터
14page 자료: Fuji Keizai, 반도체 재료 시장의 전모.
15page 자료: Fuji Keizai, 반도체 재료 시장의 전모.
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안녕하세요, 저희는 포토리소에 대해서 발표하겠는데요,
포토리소의 개요부터 시작해서 마지막으로 적용분야까지 설명을 하겠습니다.
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_NOTES_2_
먼저, 개요를 설명하겠습니다. 포토리소는 포토리소그래피의 줄임말인데,
회로를 설계 하고 나서 그 걸 유리판 위에 금속패턴으로 만듭니다.
그걸 마스크라고 하는데, 여기에 빛을 쏘면 생기는 그림자를 웨이퍼에 복사하는 기술입니다.
말로 설명하면 어려운데, 이 그림을 보면 쉽습니다.
(그림설명)
이 포토리소는 반도체의 제조 공정에서 가장 중요한 공정입니다.
참고로 Lithography는 라틴어로 돌이라는뜻의 lithos, 또 그림 graphy의 합성어입니다.
옛날에는 인쇄기술로 썼는데, 지금은 반도체 노광공정 기술을 말합니다.
이 포토리소를 통해서 반도체 미세화가 가능해진겁니다.
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_NOTES_3_
그리고 이건 별로 중요한 건 아니지만, 포토리소는 광학계에 따른 두 가지 방식이 있다는 설명입니다.
왼쪽 그림은 근접 노광, 오른쪽 그림은 투영 노광 방식이라고 하는데,
딱 봐도 오른쪽 그림이 더 좋아 보입니다.
근접 노광에서는 마스크와 웨이퍼 사이에서 가스 발생이나 감광제가 묻거나 하는 현상이 생겨서,
마스크 수명이 짧아지고 해상도도 떨어져서 요즘은 안 씁니다. 옛날에 쓰던 겁니다.
또, 그림에는 안 나와있지만 (왼쪽그림을 가리키며) 여기 이

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